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單晶硅除塵系統(tǒng)與普通除塵系統(tǒng)的區(qū)別

利菲爾特點(diǎn)擊: 2025-01-08

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  1. 原理差異

    • 普通除塵系統(tǒng):有機(jī)械(如重力沉降室、慣性與旋風(fēng)除塵器)、濕式(如噴淋塔、文丘里除塵器)、過(guò)濾式(如布袋除塵器)等方式。像重力沉降室借顆粒重力沉降分離;慣性除塵器靠顆粒慣性在氣流轉(zhuǎn)向時(shí)分離 ;濕式除塵利用水吸附粉塵;過(guò)濾式除塵讓氣體通過(guò)濾材截留粉塵。

    • 單晶硅除塵系統(tǒng):除傳統(tǒng)高效過(guò)濾,還配合特殊凈化措施。如拉晶時(shí)先靜電除塵使硅粉帶電收集,再經(jīng) HEPA 過(guò)濾,對(duì) 0.3 微米以上顆粒過(guò)濾效率達(dá) 99.97% 以上,確保滿足生產(chǎn)的高潔凈需求。

  2. 過(guò)濾材料與精度不同

    • 普通除塵系統(tǒng):布袋除塵器常用聚酯纖維、聚丙烯纖維等濾材,過(guò)濾精度 1 - 10 微米,能滿足一般工業(yè)與環(huán)境治理要求,如水泥廠用聚酯纖維布袋除塵。

    • 單晶硅除塵系統(tǒng):采用高精度濾材,如 HEPA、ULPA,ULPA 對(duì) 0.1 - 0.2 微米顆粒過(guò)濾效率達(dá) 99.999% 以上,可過(guò)濾切片產(chǎn)生的亞微米級(jí)硅屑顆粒。

  3. 系統(tǒng)密封性與潔凈度維護(hù)有別

    • 普通除塵系統(tǒng):密封性要求低,少量空氣混入或微小泄漏不影響除塵效果。維護(hù)清潔周期長(zhǎng),如機(jī)械加工廠的旋風(fēng)除塵器,隔幾天或幾周清理粉塵即可。

    • 單晶硅除塵系統(tǒng):密封性要求極高,與潔凈室形成密封整體,防止外界雜質(zhì)進(jìn)入。需持續(xù)監(jiān)測(cè)潔凈度,實(shí)時(shí)監(jiān)控過(guò)濾效率、壓力差等參數(shù),定期更換或清潔濾材,維持生產(chǎn)環(huán)境潔凈等級(jí)。

  4. 應(yīng)用場(chǎng)景不同

    • 普通除塵系統(tǒng):用于各類工業(yè)領(lǐng)域和一般環(huán)境除塵,如建筑施工場(chǎng)地?fù)P塵控制、冶金行業(yè)廢氣除塵。

    • 單晶硅除塵系統(tǒng):專門(mén)服務(wù)單晶硅生產(chǎn),從拉晶到切片、磨片等環(huán)節(jié),保障生產(chǎn)環(huán)境潔凈,確保產(chǎn)品純度和質(zhì)量 。